英特爾提出制程節(jié)點(diǎn)新命名，將為AWS和高通代工生產(chǎn)芯片

在今早凌晨的發(fā)言中，英特爾公布了關(guān)于代工服務(wù)的更多進(jìn)展，以及新技術(shù)，其中包括將迅速采用下一代極紫外光刻（EUV）技術(shù)的計(jì)劃，并有望率先獲得業(yè)界第一臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)。

而在客戶端，英特爾CEO帕特·基辛格透露稱，AWS將成為第一個(gè)用英特爾代工服務(wù)（IFS）封裝解決方案的客戶，高通也將采用Intel 20A制程工藝技術(shù)。

據(jù)了解，Intel 20A是英特爾對(duì)制程工藝節(jié)點(diǎn)的新命名。繼去年推出的10nm SuperFin節(jié)點(diǎn)之后，從下一個(gè)節(jié)點(diǎn)Intel 7開始，英特爾后續(xù)節(jié)點(diǎn)將被命名為Intel 4、Intel 3和Intel 20A。

其中，Intel 7是英特爾此前的10nm Enhanced SuperFin技術(shù)、Intel 4是英特爾此前的7nm技術(shù)、Intel 3則是更新一代的技術(shù)。

而A則代表著英特爾從FinFETs轉(zhuǎn)向Gate-All-Around（GAA）晶體管RibbonFET。

據(jù)悉，Intel 20A，也就是人們當(dāng)下認(rèn)知中的5nm制程，將于2024年推出。而在2025年，英特爾將推出Intel 18A制程。

具體來(lái)看，英特爾制程節(jié)點(diǎn)新命名與當(dāng)下主流命名納米節(jié)點(diǎn)的對(duì)比如下：

圖|來(lái)源：AnandTech